離子濺射儀MSP-1S的鍍膜原理分析
離子濺射儀的鍍膜的主要方式有兩種:熱蒸發(fā)和離子濺射(包括直流濺射和磁控濺射)。
熱蒸發(fā)是通過對鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積到樣品表面并形成膜。
離子濺射是將靶材、樣品均置于真空室中;首先進行抽真空,實現(xiàn)輝光放電所需的低氣壓環(huán)境;靶材接高壓,為負極;樣品臺接地,為正極;靶材與樣品臺之間形成高壓電場,電離氣體;氣體電離后,正離子飛向負極,轟擊靶材,靶材原子被濺射飛出,沉積到樣品上形成導(dǎo)電膜。
該設(shè)備專用于貴金屬薄膜涂層,用于SEM觀察。 該裝置進行貴金屬涂層,以防止SEM樣品充電并提高二次電子生成的效率。 除了使用磁控管靶電極進行低壓放電外,樣品臺是浮動的,減少了電子束流入造成的樣品損壞。 操作簡單,只需按一下按鈕,就沒有技巧。 它很小,不占用太多空間。 它在桌子的角落很有用。
用途
用于 SEM 樣品的金屬涂層設(shè)備。
當(dāng)您下第一個訂單時,您將收到您選擇的一個貴金屬目標(biāo)。
請根據(jù)使用目的選擇。
©2024 秋山科技(東莞)有限公司(www.bjsmj.net) 版權(quán)所有 總訪問量:350489 sitemap.xml
地址:東莞市塘廈鎮(zhèn)塘廈大道298號603室 技術(shù)支持:環(huán)保在線 管理登陸 備案號:粵ICP備20060244號